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寄语:
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内容简介:
《图解入门——半导体***工艺基础精讲(原书第4版)》
本书以图解的方式深入浅出地讲述了半导体***工艺的各个技术环节。全书共分为12章,包括半导体***工艺全貌、前段制程概述、清洗和干燥湿法工艺、离子注入和热处理工艺、光刻工艺、刻蚀工艺、成膜工艺、平坦化(CMP)工艺、CMOS工艺流程、后段制程工艺概述、后段制程的趋势、半导体工艺的近期新动向。
本书适合与半导体业务相关的人士、准备涉足半导体领域的人士、对半导体***工艺感兴趣的职场人士和学生等阅读参考。
此版本仅限在中国大陆地区(不包括香港、澳门特别行政区及台湾地区)销售。
《图解入门 半导体***设备基础与构造精讲(原书第3版)》
本书以简洁明了的结构向读者展现了半导体***工艺中使用的设备基础和构造。全书涵盖了半导体***设备的现状以及展望,同时对清洗和干燥设备、离子注入设备、热处理设备、光刻设备、蚀刻设备、成膜设备、平坦化设备、监测和分析设备、后段制程设备等逐章进行解说。虽然包含了很多生涩的词汇,但难能可贵的是全书提供了丰富的图片和表格,帮助读者进行理解。相信本书一定能带领读者进入一个半导体***设备的立体世界。
本书适合从事半导体与芯片加工、设计的从业者,以及准备涉足上述领域的上班族和学生阅读参考。
书籍目录:
《图解入门——半导体***工艺基础精讲(原书第4版)》
《图解入门 半导体***设备基础与构造精讲(原书第3版)》
【注】本套装以商品标题及实物为准,因仓位不同可能会拆单发货,如有需要购买前可联系客服确认后再下单,谢谢!
作者介绍:
《图解入门——半导体***工艺基础精讲(原书第4版)》
佐藤淳一京都大学工学研究生院硕士。1978年,加入东京电气化学工业股份有限公司(现TDK);1982年,加入索尼股份有限公司。一直从事半导体和薄膜设备,以及工艺技术的研发工作。期间,在半导体很好技术(Selete)创立之时被借调,担任长崎大学工学部***讲师、半导体行业委员会委员。著有书籍《CVD手册》《图解入门——半导体***设备基础与构造精讲(原书第3版)》《图解入门——功率半导体基础与机制精讲(原书第2版)》《图解入门——半导体***工艺基础精讲(原书第4版)》
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编辑推荐
《图解入门——半导体***工艺基础精讲(原书第4版)》
加快国产替代,振我中华之芯!213个知识点,206张工艺与结构图例;日本有名半导体专家佐藤淳一从业30多年积淀;电子科技大学电子科学与工程学院教授王忆文、半导体工艺高级实验师王姝娅审译;前段制程、清洗与干燥、离子注入和热处理、光刻、刻蚀、成膜、平坦化、CMOS、后段制程。
《图解入门 半导体***设备基础与构造精讲(原书第3版)》
宣传词:
加快国产替代,振我中华之芯!
229个知识点,188张设备与构造图表
日本有名半导体专家佐藤淳一从业30多年积淀
国内半导体行业知名专家,《半导体简史》作者王齐推荐
电子科技大学电子科学与工程学院教授王忆文推荐
华为公司高级顾问、信息通信行业专家李翔宇推荐
无尘室、清洗与干燥、离子注入和热处理、光刻、刻蚀、成膜、平坦化、检测和分析、后段制程
网站评分
书籍多样性:4分
书籍信息完全性:9分
网站更新速度:3分
使用便利性:3分
书籍清晰度:5分
书籍格式兼容性:4分
是否包含广告:3分
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下载地址、格式选择、下载方式都还挺多的
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可以就是有些书搜不到
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还不错啊,挺好
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非常好就是加载有点儿慢。
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书籍真实打分
故事情节:7分
人物塑造:5分
主题深度:4分
文字风格:5分
语言运用:5分
文笔流畅:5分
思想传递:7分
知识深度:4分
知识广度:8分
实用性:8分
章节划分:9分
结构布局:9分
新颖与独特:3分
情感共鸣:8分
引人入胜:4分
现实相关:4分
沉浸感:5分
事实准确性:4分
文化贡献:5分